為中山大學研制的超高真空場發射陰極特性測試系統
產品展示 / 場發射裝置
主要用途：
用于各種材料和納米結構的場發射性能的系統檢測與分析，能夠詳細分析材料的開啟電場、閾值電壓及其場發射穩定性等相關性能參數。本公司長期為國際國內知名大學和科研院所（如清華大學、中山大學和中科院金屬所等）從事材料研究領域的科研人員研發此設備，積累了多年的成功研發經驗，具備了依據客戶的特殊要求量身訂做此設備的研發能力。
結構特點：
- 設備分樣品送遞室和測量室，可避免系統真空的破壞，操作便捷，省時；
- 極限真空可達10-7Pa，保證測試的可靠性。
- 系統可對樣品加溫，實現室溫至600°C不同溫度下的場發射特性測試；
- 電極距離由螺旋測微器精確調整；
- 測試過程數據采集實現自動化，可長時間測量，便于壽命檢測；
- 測試儀表為美國進口，穩定性及可靠性高。
技術指標：
- 系統極限真空度：i)超高室：優于8×10-9Pa；ii)預處理室：8×10-9Pa；預處理室具有旁抽功能，檢測系統：精度可達0.001-0.01mm，5分鐘即可從大氣進入超高真空狀態。
- 能夠實現高溫條件下材料的電子發射性能的檢測與分析，溫度控制范圍：室溫-500°C;控溫精度：±1°C.
- 配有離子槍處理樣品功能，數顯真空測量計，配有玻璃觀察窗，可一次打印出IT、IV曲線。
- 變溫樣品臺：液氮溫度-196°C-500°C；樣品尺寸：1cm×1cm；場發射測試樣品臺耐壓：10KV(進口）。
- 電子轟擊源：能量10keV,束流可達1mA(進口）
- 離子轟擊源：能量0-800eV，束流可達0-80mA
- 等離子體發生器：射頻電源功率500W，置于預處理室內
- 紫外光源：波長365±2 mm，光斑尺寸：3×3mm，中心功率峰值：4500MW/cm2
- 可見光源：氙燈500W，穩定度≤1%，光斑直徑50mm
- 氣路：質量流量計控制，調節范圍:50Pa-10-7Pa